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氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm

簡要描述:77440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm20ml濃度:0.5mg/ml 溶劑:水10先豐納米100056不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm50ml濃度:0.5mg/ml 溶劑:水10先豐納米100057不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm100ml濃度:0.5mg/ml 溶劑:水10先豐納

  • 產(chǎn)品型號:500ml,200ml,100ml,20ml
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-12-04
  • 訪  問  量:530

上海騰騫生物科技有限公司是集產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)、銷售為一體的綜合型公司,成立于2014年,是一家專注于醫(yī)藥化學(xué)、精細化工和新材料科學(xué)等領(lǐng)域的公司,擁有一支富有創(chuàng)造天賦的專業(yè)團隊,在原料藥、精細化工、中間體以及新材料科學(xué)的定制合成、工藝開發(fā)&優(yōu)化&驗證等領(lǐng)域具有較強的優(yōu)勢。

公司專業(yè)定制有機多孔材料體(MOFs、COFs)、有機太陽能電池中間體、光電材料中間體(OLED、OPV&OTFT)、聚酰亞胺單體、熒光探針染料、有機硅等。銷售各類醫(yī)藥中間體、精細化工(雜環(huán)、芳環(huán)、脂肪族)等。提供生物染料、抑制劑、各種新型結(jié)構(gòu)和稀有結(jié)構(gòu)化合物的定制服務(wù)。

公司新推出數(shù)據(jù)模擬服務(wù),計算范圍包括:

①COF類:二維、三維COF的XRD模擬(包括AA堆積,AB堆積,ABC堆積);精修;圖示。

②其他類:靜電勢面的計算;HOMO、LUMO計算;大分子吸附小分子的結(jié)合能計算;電池催化過程活化能及過渡態(tài)計算。

合作的主要客戶有北京大學(xué),清華大學(xué),中國科學(xué)院福建物構(gòu)所,浙江大學(xué),中山大學(xué),華東理工大學(xué)等,公司以誠信可靠的服務(wù)與扎實專業(yè)的工作著稱于客戶,得到老師與同學(xué)的一致認可。

上海騰騫生物科技有限公司近幾年致力于MOF&COF單體的研究,得到了科研院校的*,近期騰騫生物開始拓展產(chǎn)品線,開發(fā)了石墨烯、類石墨烯、碳納米管、分子篩、銀納米線等系列產(chǎn)品,每種產(chǎn)品提供不同的規(guī)格,不同溶劑,不同直徑,不同濃度,滿足客戶的多種需求,部分產(chǎn)品可以提供完整的SEM,XRD,TEM等表征

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7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm20ml濃度:0.5mg/ml 溶劑:水10先豐納米100056不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm50ml濃度:0.5mg/ml 溶劑:水10先豐納米100057不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm100ml濃度:0.5mg/ml 溶劑:水10先豐納米100058不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm200ml濃度:0.5mg/ml 溶劑:水10先豐納米100059不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm500ml濃度:0.5mg/ml 溶劑:水10先豐納米100060不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm1000ml濃度:0.5mg/ml 溶劑:水10先豐納米100061不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm20ml濃度:2mg/ml 溶劑:水10先豐納米100062不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm50ml濃度:2mg/ml 溶劑:水10先豐納米100063不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm100ml濃度:2mg/ml 溶劑:水10先豐納米100064不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm200ml濃度:2mg/ml 溶劑:水10先豐納米100065不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm500ml濃度:2mg/ml 溶劑:水10先豐納米100066不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm1000ml濃度:2mg/ml 溶劑:水10先豐納米100067不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm20ml濃度:1mg/ml 溶劑:水 10先豐納米100653不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm50ml濃度:1mg/ml 溶劑:水 10先豐納米100654不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm100ml濃度:1mg/ml 溶劑:水 10先豐納米100655不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm200ml濃度:1mg/ml 溶劑:水 10先豐納米100656不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm500ml濃度:1mg/ml 溶劑:水 10先豐納米100657不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm1000ml濃度:1mg/ml 溶劑:水 10先豐納米100658不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm20ml濃度:0.5mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100699不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm50ml濃度:0.5mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100700不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm100ml濃度:0.5mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100701不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm200ml濃度:0.5mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100702不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm500ml濃度:0.5mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100703不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm1000ml濃度:0.5mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100704不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm20ml濃度:1mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100705不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm50ml濃度:1mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100706不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm100ml濃度:1mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100707不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm200ml濃度:1mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100708不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm500ml濃度:1mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100709不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm1000ml濃度:1mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100710不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm20ml濃度:2mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100711不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm50ml濃度:2mg/ml 溶劑: 乙醇10先豐納米100712不限
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7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm20ml濃度:0.5mg/ml 溶劑: NMP10先豐納米100717不限
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7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm200ml濃度:0.5mg/ml 溶劑: NMP10先豐納米100720不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm500ml濃度:0.5mg/ml 溶劑: NMP10先豐納米100721不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm1000ml濃度:0.5mg/ml 溶劑: NMP10先豐納米100722不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm20ml濃度:1mg/ml 溶劑: NMP10先豐納米100723不限
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7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm200ml濃度:1mg/ml 溶劑: NMP10先豐納米100726不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm500ml濃度:1mg/ml 溶劑: NMP10先豐納米100727不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm1000ml濃度:1mg/ml 溶劑: NMP10先豐納米100728不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm20ml濃度:2mg/ml 溶劑: NMP 10先豐納米100729不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm50ml濃度:2mg/ml 溶劑: NMP 10先豐納米100730不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm100ml濃度:2mg/ml 溶劑: NMP 10先豐納米100731不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm200ml濃度:2mg/ml 溶劑: NMP 10先豐納米100732不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm500ml濃度:2mg/ml 溶劑: NMP 10先豐納米100733不限
7440-44-0氧化石墨烯分散液 片徑大于500 nm1000ml濃度:2mg/ml 溶劑: NMP 10先豐納米100734不限

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